Meiden纯臭氧发生器是液化和储存臭氧气体并连续供应高纯度臭氧气体的装置。由于高纯度的臭氧水平，它可以用作半导体工艺中的氧自由基产生源。为了安全起见，本机具有足够的安全措施。
此外，该单元是与日本国立先进工业科学技术研究所共同开发的。
参数
积蓄处
臭氧反应室数量：2
最大臭氧积蓄量*¹ [cc*²] ：32000/装置 16000/反应室
液体臭氧浓度[％] ≓ 100
供给处
连续供给能力[sccm]：100*9
最大供给能力[sccm] ：300
臭氧气体浓度[％] ： 90
最大供给时间[分]*³ ：100
国际安全标准SEMI-S2, UL, NFPA, CE ：符合
特征：
将臭氧生成装置产生的臭氧气体极度低温液化后，生成100%浓度臭氧
可以持续供给100%浓度臭氧
安全对策
基于安全装置设计的考虑，保持高纯度・减压状态，使臭氧不产生危险反应。
安全设计
• 紧急时的防爆设计
• 停电，异常时通过安全系统控制温度和压力。
信赖性
• 停电时、先稀释臭氧浓度，然后将装置内残留臭氧紧急排出。
• 异常发生时可以通过EMO（紧急停止）开关来手动停止装置。（为防止臭氧爆炸，冷冻机具有持续运行功能）
• 液化反应室收纳于真空断热的SUS容器中，万一臭氧发生爆炸也不会造成对外部机械损伤。
• 液态臭氧冷却装置具有足够的容积来容纳液态臭氧，减少由震动引起的急速气化爆炸风险。
标准认证
• 符合国际安全标准（SEMI-S2、UL、NFPA、CE 等）
品质保证
• 由第三方认证机关通过示踪气体实验认证具有防止气体泄露的安全性。
OER *工艺技术
通过将高浓度臭氧和乙烯混合，成功地生成了大量OH自由基。
装置构成图（连续供给类型)
| 场地 | 类别 | 适用技术 | 预期效果 |
|---|---|---|---|
| 环境 | 水处理 | 纯臭氧处理方法 | 消毒，除臭和脱色 |
| 药物治疗 | 医疗器材 | 纯臭氧处理方法 | 灭菌和制药（有机合成） |
| 电影 | 与FPD相关 | 新增气体处理方法 | 触摸屏等的表面改性和涂膜 |
| 半导体安装相关 | 用于FPC等的表面改性和涂膜 | ||
| 食品相关 | 包装材料的表面改性 | ||
| 电池相关 | 太阳能电池等膜的表面改性 | ||
| 材料 | 成员 | 纯臭氧处理方法 | 碳纳米管改性和球形硅氧化 |
| 电池 | 电极片 | 新增气体处理方法 | 电极部件修改 |
| 半导体 | 成膜工艺 |
•纯臭氧处理方法 •UV臭氧CVD处理方法 •添加气体处理方法 |
氧化，CVD，绝缘膜改性，灰化和干洗 |
| 平版印刷 | 光掩模修改，精密零件清洁和EUVL | ||
| 先进的系统 | 微机电系统 |
•纯臭氧处理方法 •添加气体处理方法 |
灰化和干洗 |
| 纳米压印 | 干洗压模 | ||
| 微加工相关 | 高温超导膜和分子束外延（MBE） | ||
| 印刷电子 | 印刷步骤前后的表面改性和涂层 |
