目前，高纯臭氧主要应用于半导体高端工艺及相关研究领域，包括：
高介电常数材料（High-k）
例如：
HfO₂
ZrO₂
La₂O₃
这些材料要求极低的碳、氮杂质含量，高纯臭氧具有明显优势。
先进逻辑器件
随着FinFET、GAA等新型晶体管结构的发展，栅极介质厚度不断降低。
薄膜中极少量杂质都可能影响器件性能，因此更高效的氧化方式越来越受到关注。
先进存储器
包括：
DRAM
3D NAND
新型存储材料
这些工艺同样需要高质量氧化膜及高重复性的ALD过程。
新材料研发
越来越多高校和科研院所开始研究：
Ga₂O₃
In₂O₃
IGZO
铁电HfO₂
稀土氧化物
这些研究也为高纯臭氧提供了新的应用空间。
